頂點光電子商城2022年11月23日消息：近日，盛美上海通過線上會議舉行了科創板上市周年慶暨新品發布會，發布了前道涂膠顯影設備Ultra LITH。
Ultra LITH設備采用自主全球專利保護的全新系統結構設計，擁有穩定的電控架構及強大的軟件系統，且具可擴張性，可以支持300 WPH及未來下一代高產出光刻機400 WPH的更高產出需求；搭載高速穩定的機械手系統，多機械手協同配合，可實現晶圓傳輸路徑的優化，提高傳輸效率。
該設備用于前道300mm晶圓的涂膠顯影，具有4個12英寸裝載端口，8個涂膠腔和8個顯影腔，可進一步擴展到12個涂膠腔和12個顯影腔，適用于i-line、KrF和ArF等多種材料的涂膠顯影工藝。設備內部氣流分布進行了優化處理，可減少顆粒污染，強大的清洗技術亦可支持未來浸沒式光刻機對硅片背面的顆粒清洗需求；此外，分區控制的高精度熱板由公司自主研發，已達到業界先進水平。且該設備適配性強，支持主流的光刻機接口。
盛美半導體設備(上海)股份有限公司于2005年05月17日成立。法定代表人王暉，公司經營范圍包括：設計、生產、加工電子專用設備及其零部件，銷售公司自產產品，并提供售后技術服務和咨詢服務等。在做企業的過程中，盛美上海始終堅持技術差異化競爭的策略，各項技術都在全球進行了專利布局。多年來，盛美上海申請了960項以上發明專利，授權專利超過400項，也獲得了上海專利示范企業的榮譽。
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