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三星今年上半年量產(chǎn)第三代4納米芯片

        近日,有消息稱,三星將于今年上半年開始量產(chǎn)第三代4納米芯片,將穩(wěn)定制程早期階段的良率問題,以及提升性能、功耗和做出面積改進(jìn)。


       三星近日發(fā)布的財(cái)報(bào)顯示,三星將于今年上半年開始量產(chǎn)采用4納米2.3代工藝的芯片。這是三星電子首次提及4納米后續(xù)版本的具體量產(chǎn)時(shí)間。與4納米芯片的早期版本SF4E相比,第二代和第三代產(chǎn)品表現(xiàn)出更好的性能、更低的功耗和更小的面積。


       三星于去年6月底正式宣布,開始初步生產(chǎn)基于3nm全環(huán)繞柵極(Gate-All-AroundT,簡稱GAA)制程工藝節(jié)點(diǎn)的芯片,首先將應(yīng)用于高性能、低功耗計(jì)算領(lǐng)域的半導(dǎo)體芯片,并計(jì)劃將其擴(kuò)大至移動(dòng)處理器領(lǐng)域。


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        與三星5nm工藝相比,三星第一代3nm工藝可以使功耗降低45%,性能提升23%,芯片面積減少16%;三星表示,未來第二代3nm工藝將使功耗降低50%,性能提升30%,芯片面積減少35%。


         目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝技術(shù)是3納米,但主要產(chǎn)品還是4納米和5納米芯片。根據(jù)市場(chǎng)研究公司Counterpoint Research的數(shù)據(jù),截至去年第三季度,4納米和5納米工藝占銷售額的22%,超過了6納米和7納米工藝的16%和16、14和12納米工藝的11%。


        在3納米方面,半導(dǎo)體行業(yè)分析師和專家估計(jì),目前臺(tái)積電的N3良率可能在60%~70%,最高在75%~80%,第一批的成績還算不錯(cuò)。相比之下,三星代工廠的3GAE良率在早期階段從10%~20%不等,廢片率高。

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