頂點光電子商城2024年12月23日消息：近日，日本先進邏輯半導體制造商Rapidus宣布，其購入的首臺ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻機已在位于北海道千歲市的IIM-1晶圓廠完成交付并啟動安裝。這一事件標志著日本首次引入用于大規模生產尖端半導體的EUV（極紫外）光刻系統。
NXE:3800E是ASML EXE系列0.33（Low）NA EUV光刻機的最新型號，與0.55（High）NA EXE平臺共享部分組件，晶圓吞吐量較前款NXE:3600D提升37.5%。
Rapidus成為日本首家擁有EUV光刻機的公司，為日本半導體產業注入新的活力。此次引入的EUV光刻機能夠滿足Rapidus首代量產工藝2nm的制造需求，有助于提升日本在國際先進半導體制造領域的競爭力。Rapidus還計劃在IIM-1晶圓廠安裝一系列配套先進半導體制造設備以及全自動材料處理系統，旨在實現2nm制程GAA（全環繞柵極）結構半導體的生產，這將進一步推動日本半導體產業的發展。
Rapidus已經確認IIM-1晶圓廠將于2025年4月啟動試產，且該晶圓廠所有半導體制造設備均將采用“單晶圓工藝”Rapidus將在該模式下構建名為RUMS（快速和統一制造服務）的新型半導體代工模式。
如果Rapidus試產2nm芯片順利，還計劃在接下來的第二間工廠內采用1.4nm工藝，屆時預計將加大EUV光刻機的購買量。這將有助于Rapidus在未來幾年內保持在半導體制造領域的領先地位。
在光刻機交付安裝當天，眾多重要人物出席了在北海道新千歲機場舉行的紀念儀式，包括Rapidus首席執行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML高管以及荷蘭駐日本大使等。Rapidus總裁兼首席執行官表示：“我們非常高興能夠迎來這一里程碑式的時刻。通過引入ASML最先進的EUV技術，我們將為客戶提供更高性能、更小尺寸的半導體解決方案。”
綜上所述，日本成功引入首臺ASML EUV光刻機對于提升日本半導體產業的競爭力和技術水平具有重要意義。隨著Rapidus在IIM-1晶圓廠的試產和后續擴產計劃的推進，日本有望在全球半導體市場中占據更加重要的地位。
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