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         頂點光電子商城2025年9月3日消息：近日，SK海力士宣布，成功引進存儲器業界首臺量產型高數值孔徑極紫外光刻機（High NA EUV），設備型號為荷蘭ASML公司生產的TWINSCAN EXE:5200B，并已將其部署至韓國利川M16工廠，同時舉行了設備入廠慶祝儀式。

         現有EUV設備NA值為0.33，而High NA EUV設備提升至0.55，光學性能提升40%。NA值增大意味著透鏡匯聚光線能力增強，可繪制更微細的電路圖案，精密度提升1.7倍，集成度提升2.9倍。

         High NA EUV設備可實現比現有EUV系統小1.7倍的晶體管刻蝕，同時晶體管密度提高2.9倍。這將簡化現有EUV工藝流程，加速下一代半導體存儲器的研發進程，降低生產成本并提升產品性能。

          SK海力士表示，此次設備引進將為快速開發并供應滿足客戶需求的尖端產品奠定基礎，同時通過與ASML等合作伙伴的緊密協作，提升全球半導體供應鏈的可靠性和穩定性。

          SK海力士計劃通過High NA EUV設備的應用，簡化現有工藝流程，加快研發速度，從而在產品性能和成本控制方面保持競爭力。此舉不僅有助于滿足市場對高性能存儲器的需求，還將推動半導體制造技術向更微細化和高集成度方向發展。